北京中金研新材料科技有限公司（CNM）是坐落于中關村科技園區的國家高新技術企業，由業內龍頭企業為發起人，整合了國內科研院校的優勢資源，吸收國內外先進科學的管理經驗而成立。人才儲備豐富，資金力量雄厚，通過ISO9001:2008質量體系及ISO14001:2004環境管理體系認證，具有自主進出口權。

   北京中金研新材料科技有限公司在各種高純材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能材料及應用技術研究開發方面，有著得天獨厚的優勢。以堅強的技術為基礎，我公司開發了多個系列的新材料，這些產品牌號約百余種。已在航空航天、軍工、信息電子、真空鍍膜、冶金、功能材料、生物醫藥、新能源等行業獲得廣泛應用。目前擁有鍍膜材料、濺射靶材、高純材料、高純合金等多條生產線，生產設備先進，工藝完善。

目前，我們的客戶遍及美國．德國．日本．韓國．臺灣．香港等十幾個國家和地區，包括國內外科研軍工，上市公司等知名企事業在內的六百余家單位。

    北京中金研新材料科技有限公司下設鍍膜材料、濺射靶材、金屬粉末、高純材料等事業部，熱烈歡迎新老客戶垂詢。我公司秉承以誠信為本，科技為本的理念，致力打造成金屬新材料行業的領頭羊。

主要產品：

磁控濺射靶材

（可為電子與半導體，平面顯示行業，建筑與汽車玻璃行業，薄膜太陽能電池行業，磁存儲行業，工具行業，裝飾行業提供高品質靶材）

高純單質金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶材Al，鉻靶材Cr，銅靶材Cu，鎳靶材Ni，硅靶材Si，鍺靶材Ge，鈮靶材Nb，鈦鈀材Ti，銦靶材In，銀靶材Ag，錫靶材Sn，石墨靶材C，鉭靶材Ta，鉬靶材Mo，金靶材Au，鉿靶材Hf，錳靶材Mn，鋯靶材Zr，鎂靶材Mg，鋅靶材Zn，鉛靶材Pb，銥靶材Ir，釔靶材Y，鈰靶材Ce，鑭靶材La，鐿靶材Yb，釓靶材Gd，鉑靶材Pt等高純單質金屬濺射靶材。

高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶材、AZO靶材，IGZO靶材，氧化鎂靶材MgO、氧化釔靶材Y2O3，氧化鐵靶材Fe2O3,氧化鎳靶材Ni2O3，氧化鉻靶材Cr2O3、氧化鋅靶材ZnO、硫化鋅靶材ZnS、硫化鎘靶材CdS，硫化鉬靶材MoS2，二氧化硅靶材SiO2、一氧化硅靶材SiO、二氧化鋯靶材ZrO2、五氧化二鈮靶材Nb2O5、二氧化鈦靶材TiO2,二氧化鉿靶材HfO2，二硼化鈦靶材TiB2，二硼化鋯靶材ZrB2，三氧化鎢靶材WO3，三氧化二鋁靶材Al2O3，五氧化二鉭靶材Ta2O5、氟化鎂靶材MgF2、硒化鋅靶材ZnSe、氮化鋁靶材AlN，氮化硅靶材Si3N4，氮化硼靶材BN，氮化鈦靶材TiN，碳化硅靶材SiC，鈮酸鋰靶材、鈦酸鐠靶材、鈦酸鋇靶材、鈦酸鑭靶材等高密度陶瓷濺射靶材.




備注：CNM生產的陶瓷靶材采用世界*先進的陶瓷生產工藝—惰性氣體保護熱等靜壓燒結技術，相對密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。
北京中金研新材料科技有限公司（CNM）是坐落于中關村科技園區的國家高新技術企業，由業內龍頭企業為發起人，整合了國內科研院校的優勢資源，吸收國內外先進科學的管理經驗而成立。人才儲備豐富，資金力量雄厚，通過ISO9001:2008質量體系及ISO14001:2004環境管理體系認證，具有自主進出口權。

   北京中金研新材料科技有限公司在各種高純材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能材料及應用技術研究開發方面，有著得天獨厚的優勢。以堅強的技術為基礎，我公司開發了多個系列的新材料，這些產品牌號約百余種。已在航空航天、軍工、信息電子、真空鍍膜、冶金、功能材料、生物醫藥、新能源等行業獲得廣泛應用。目前擁有鍍膜材料、濺射靶材、高純材料、高純合金等多條生產線，生產設備先進，工藝完善。

目前，我們的客戶遍及美國．德國．日本．韓國．臺灣．香港等十幾個國家和地區，包括國內外科研軍工，上市公司等知名企事業在內的六百余家單位。

    北京中金研新材料科技有限公司下設鍍膜材料、濺射靶材、金屬粉末、高純材料等事業部，熱烈歡迎新老客戶垂詢。我公司秉承以誠信為本，科技為本的理念，致力打造成金屬新材料行業的領頭羊。

磁控濺射靶材

（可為電子與半導體，平面顯示行業，建筑與汽車玻璃行業，薄膜太陽能電池行業，磁存儲行業，工具行業，裝飾行業提供高品質靶材）

高純單質金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶材，Al靶材，鉻靶材，Cr靶材，銅靶材，Cu靶材，鎳靶材，Ni靶材，硅靶材，S靶材，鍺靶材，Ge靶材，鈮靶材，Nb靶材，鈦鈀材，Ti靶材，銦靶材，In靶材，銀靶材，Ag靶材，錫靶材，Sn靶材，石墨靶材，C靶材，鉭靶材，Ta靶材，鉬靶材，Mo靶材，金靶材，Au靶材，鉿靶材，Hf靶材，錳靶材，Mn靶材，鋯靶材，Zr靶材，鎂靶材，Mg靶材，鋅靶材，Zn靶材，鉛靶材，Pb靶材，銥靶材，Ir靶材，釔靶材，Y靶材，鈰靶材，Ce靶材，鑭靶材，La靶材，鐿靶材，Yb靶材，釓靶材，Gd靶材，鉑靶材，Pt靶材等高純單質金屬濺射靶材。

高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶材、AZO靶材，IGZO靶材，氧化鎂靶材，MgO靶材、氧化釔靶材，Y2O3靶材，氧化鐵靶材，Fe2O3靶材,氧化鎳靶材，Ni2O3靶材，氧化鉻靶材，Cr2O3靶材、氧化鋅靶材，ZnO靶材、硫化鋅靶材，ZnS靶材、硫化鎘靶材，CdS靶材，硫化鉬靶材，MoS2靶材，二氧化硅靶材，SiO2靶材、一氧化硅靶材，SiO靶材、二氧化鋯靶材，ZrO2靶材、五氧化二鈮靶材，Nb2O5靶材、二氧化鈦靶材，TiO2靶材,二氧化鉿靶材，HfO2靶材，二硼化鈦靶材，TiB2靶材，二硼化鋯靶材，ZrB2靶材，三氧化鎢靶材，WO3靶材，三氧化二鋁靶材，Al2O3靶材，五氧化二鉭靶材，Ta2O5靶材、氟化鎂靶材，MgF2靶材、硒化鋅靶材，ZnSe靶材、氮化鋁靶材，AlN靶材，氮化硅靶材，Si3N4靶材，氮化硼靶材，BN靶材，氮化鈦靶材，TiN靶材，碳化硅靶材，SiC靶材，鈮酸鋰靶材、鈦酸鐠靶材、鈦酸鋇靶材、鈦酸鑭靶材等高密度陶瓷濺射靶材.

備注：CNM生產的陶瓷靶材采用世界*先進的陶瓷生產工藝—惰性氣體保護熱等靜壓燒結技術，相對密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。

高純合金濺射靶材：鎳釩合金靶材，Ni-V靶材，鎳鉻合金靶材，Ni-Cr靶材，鈦鋁合金靶材，Ti-Al靶材，硅鋁合金靶材，Si-Al靶材，銅銦合金靶材，Cu-In靶材，銅鎵合金靶材，Cu-Ga靶材，銅銦鎵合金靶材，Cu-In –Ga靶材，銅銦鎵硒靶材，Cu-In –Ga-Se靶材，不銹鋼靶材，鋅鋁合金靶材，Zn-Al靶材，鎢鈦靶材，W-Ti靶材，鐵鈷靶材 ，Fe-Co靶材，白銅靶材等高純合金濺射靶材。

備注：CNM生產的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對密度高（99-99.9%），純度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。
真空鍍膜材料
（鍍制：復合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，氣敏傳感器膜，高溫介質膜，光學膜，激光裝置濾光片，保護膜，透明導電膜，變色膜，優良的寬帶增透膜，磁性薄膜，可見光區增透膜，紅外增透膜，分光膜，多層膜，高反射膜，電阻膜，熱反射膜，冷光膜膜）


高品質真空鍍膜材料（4N-5N）：

1.氧化物:一氧化硅靶材，SiO靶材,二氧化硅靶材，SiO2靶材,二氧化鈦靶材，TiO2靶材,二氧化鋯靶材，ZrO2靶材,二氧化鉿靶材，HfO2靶材,一氧化鈦靶材，TiO靶材,五氧化三鈦靶材，Ti3O5靶材，五氧化二鈮靶材，Nb2O5靶材，五氧化二鉭，Ta2O5靶材,氧化釔靶材，Y2O3靶材等高純氧化物鍍膜材料。
2.氟化物：氟化釹靶材，NbF3靶材,氟化鋇靶材，BaF2靶材，氟化鈰靶材，CeF3靶材，氟化鎂靶材，MgF2靶材，氟化鑭靶材，LaF3靶材，氟化釔靶材YF3靶材，氟化鐿靶材，YbF3靶材，氟化鉺靶材，ErF3靶材等高純氟化物。
3.其它化合物：硫化鋅靶材，ZnS靶材，硒化鋅靶材，ZnSe靶材，氮化鈦靶材，TiN靶材，碳化硅靶材，SiC靶材，鈦酸鑭靶材，LaTiO3靶材，鈦酸鋇靶材，BaTiO3靶材，鈦酸鍶靶材，SrTiO3靶材，鈦酸鐠靶材，PrTiO3靶材，硫化鎘靶材，CdS靶材等真空鍍膜材料。
4.金屬鍍膜材料：高純鋁靶材，Al靶材，高純銅靶材，Cu靶材，高純鈦靶材，Ti靶材，高純硅靶材，Si靶材，高純金靶材，Au靶材，高純銀靶材，Ag靶材，高純銦靶材，In靶材，高純鎂靶材，Mg靶材，高純鋅靶材，Zn靶材，高純鉑靶材，Pt靶材，高純鍺靶材，Ge靶材，高純鎳靶材，Ni靶材,高純金靶材，Au靶材，金鍺合金靶材，AuGe靶材，金鎳合金靶材，AuNi靶材，鎳鉻合金靶材，NiCr靶材，鈦鋁合金靶材，TiAl靶材，銅銦鎵合金靶材，CuInGa靶材，銅銦鎵硒合金靶材，CuInGaSe靶材，鋅鋁合金靶材，ZnAl靶材，鋁硅合
金靶材，AlSi靶材等金屬鍍膜材料。

備注：CNM生產的真空鍍膜材料均通過SGS認證，純度高，濺點少，放氣量小，薄膜均勻，附著力強，抗腐蝕性強，顏色均勻等優點。