一、真空鍍膜材料
1．高純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）
高純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……
多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……
陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…
稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…
稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶
金屬膜電阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：
金屬膜電阻器用靶材包括高阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。
2．高純光學鍍膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…
天源公司自主研發的真空濺射靶材、光學鍍膜材料廣泛應用于裝飾鍍膜、工具鍍膜、光學鍍膜及鍍膜玻璃工業與平板顯視行業。生產的濺射靶材成分設計合理、表面平整光滑，具有良好的導電性，濺射時工作電流穩定，高阻靶材的底板焊接牢固適用，采用該靶材制作的電阻器，具有阻值集中、穩定性好，有良好的耐熱、耐磨和抗氧化性能，電阻溫度系數小等特點。其靶材的制備都是根據其材料特性來加工的：分熱壓燒結工藝法和真空熔鑄工藝法，產品均具有純度高，微觀組織優異及利用率高等特點，靶型有：平面矩形，管形，圓盤形，環形，片狀，粉狀等，規格和成分還可以根據用戶的具體要求來定做。
二、高純金屬及氧化物試劑（99.9%——99.999％）
1. 高純金屬氧化物顆粒、片及絲
高純鋁顆粒/片、高純鉻顆粒/片、高純鎳顆粒/片、高純鈦顆粒/片、高純鈷顆粒/片、高純鋅顆粒/片、高純錫片/顆粒、高純鉛顆粒/片、高純鐵顆粒/片、高純鍺顆粒/片、高純鈮顆粒/片、高純硅顆粒/片、高純鎵顆粒/片、氧化鎵顆粒/片、高純砷顆粒/片、氧化砷片、高純銦顆粒/片、氧化銦顆粒/片、高純碲顆粒/片、高純鎘顆粒/片、高純銻顆粒/片、氧化銻顆粒/片、高純鉿顆粒/片、高純鉑顆粒/片、高純鉬顆粒/片、高純硼顆粒/片、高純硒顆粒/片、高純鉍顆粒/片、氧化鉍顆粒/片、氧化鈮顆粒/片、氧化鉭顆粒/片、高純石墨片、高純銅顆粒、氧化鋁顆粒、硝酸銀顆粒、高純銀顆粒、高純鎂片、硅-鋁絲、鉭絲、高純錳片、高純鎢絲、氧化銀絲、氰化銀鉀顆粒、氰化金鉀顆粒、氯化鈀顆粒、草酸鈷片、四氧化三鈷顆粒、氧化鈷顆粒、四氧化三錳顆粒、金屬碘化物材料等…
2．高純金屬及氧化物粉末
高純鋁粉、高純鉻粉、高純鎳粉、高純鈦粉、高純鈷粉、高純鋅粉、高純錫粉、高純鉛粉、高純銅粉、高純鐵粉、高純鍺粉、高純鈮粉、高純硅粉、高純鎵粉、氧化鎵粉、高純砷粉、氧化砷粉、高純銦粉、氧化銦粉、高純碲粉、高純鎘粉、高純銻粉、氧化銻粉、高純鉿粉、高純鉑粉、高純鉬粉、高純鎂粉、高純錳粉、高純鎢粉、高純硼粉、高純硒粉、高純鉍粉、氧化鉍粉、氧化鈮粉、氧化鉭粉、氧化鋁粉、硝酸銀粉、高純銀粉、氧化銀粉、氰化銀鉀粉、氰化金鉀粉、氯化鈀粉、草酸鈷粉、四氧化三鈷粉、氧化鈷粉、四氧化三錳粉、白云母粉、不銹鋼粉…