該立式化學氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。

技術特征
采用先進的控制技術，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內沉積氣流穩定，壓力波動范圍��；
采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強；
采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；
對沉積產生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點粘性產物能進行有效處理；
采用*新設計防腐蝕真空機組，持續工作時間長，維修率極低。

主要配置
爐門：絲杠升降/液壓升降/手動升降；手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊
爐殼：全碳鋼/內層不銹鋼/全不銹鋼
爐膽：軟碳氈/軟石墨氈/硬質復合氈/CFC
加熱器、馬弗：等靜壓石墨/模壓三高石墨/細顆粒石墨
工藝氣路系統：體積/質量流量計；手動閥/自動閥；進口/國產
真空泵和真空計：進口/國產
PLC：歐姆龍/西門子
控溫儀表：日本島電/英國歐陸
熱電偶：C分度號/S分度號/K分度號/B分度號
記錄儀：無紙記錄儀/有紙記錄儀；進口/國產
人機界面：模擬屏/觸摸屏/工控機
電器元件：正泰/施耐德/西門子